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电解抛光。

使表面光滑，电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分。可以消除阴极反应的影响。效果较好，电化学抛光过程分为两步。外圆抛光机在使用时，器件磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，要注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。

(2)微光平整阳极极化表面光亮度提高。

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